- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
本儀器是一種具有兩個蒸發(fā)源的高真空蒸發(fā)鍍膜儀，鎢絲籃（或鎢舟）用作蒸發(fā)源，并且樣品臺和蒸發(fā)源之間的距離是可調(diào)的。 該儀器可以穩(wěn)定地蒸發(fā)金屬和某些有機物。 采用高真空不銹鋼腔體，密封性能好，真空性能好。 該腔室配有觀察窗，因此可以看到涂層過程。 采用分子泵系統(tǒng)的**真空10E-5Pa，可有效提高涂層質(zhì)量，并能滿足大多數(shù)蒸發(fā)涂層實驗所需的真空環(huán)境。
高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀用途：
高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀適用于蒸發(fā)涂覆大多數(shù)金屬和某些有機材料薄膜。
高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
|
產(chǎn)品名稱 |
高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀 |
|
|
產(chǎn)品型號 |
CY-EVV195-II-HH-SS |
|
|
樣品臺 |
位 置 |
頂部設(shè)置 |
|
外形尺寸 |
直徑φ65mm |
|
|
轉(zhuǎn) 速 |
0-20 rpm |
|
|
間 距 |
樣品架和蒸發(fā)源之間的距離可調(diào) |
|
|
可調(diào)溫度 |
≦500℃ |
|
|
熱蒸發(fā)源 |
鎢絲籃×2個，鎢舟×2個 |
|
|
蒸發(fā)電源 |
每個蒸發(fā)源配一組獨立電源；雙個蒸發(fā)源可同時共蒸 |
|
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
直徑φ195mm×H210mm |
|
觀察窗口 |
直徑φ100mm |
|
|
腔體材質(zhì) |
304不銹鋼 |
|
|
開啟方式 |
上開蓋 |
|
|
膜厚測量 |
晶體膜厚測量儀（也可選膜厚控制儀） |
|
|
真空系統(tǒng) |
前級泵 |
雙極旋片泵，氣體抽速1.1L/S |
|
次級泵 |
渦輪分子泵,氣體抽速600L/S |
|
|
真空測量 |
復合真空計(電離規(guī)+電阻規(guī)) |
|
|
系統(tǒng)真空 |
5×10-4Pa |
|
|
控制系統(tǒng) |
CYKY自研專業(yè)級控制器 |
|
|
其他參數(shù) |
供電電源 |
AC380V,50Hz |
|
整機尺寸 |
600mm×650mm×1500mm |
|
|
整機功率 |
7KW |
|
|
整機重量 |
260kg |
|
